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国产5纳米雕刻机通过验证:5纳米TSMC工艺使用它

发布时间:2019-07-02 09:16  浏览: 作为全球首屈一指的代工厂,新的台积电技术不断加速发展。7纳米EUV EUV光刻工艺首次完成,5纳米工艺计划于2019年4月开始试生产。
但是,众所周知,半导体加工是一种集成大成的高精密技术。TSMC本身并没有完全完成新工艺,而是基于整个产业链中的设备和技术供应。例如,已知的光刻设备通常来自荷兰的ASML。
值得赞赏的是台积电的5纳米生产线拥有深圳中威半导体的5纳米等离子雕刻机,该机是自主开发的,最近通过了台积电验证。
Micro-Semiconductor和TSMC合作开发28 nm工艺,10 nm和7 nm工艺仍在继续。现在,他们已成功推进了最先进的5纳米技术。
据报道,等离子雕刻机是制造用于芯片微雕刻的芯片的重要装置。每根线和深孔的加工精度是头发直径的千分之几到千分之几,精度控制要求非常高。
例如,16纳米微型器件具有超过60层的微结构,需要超过1,000个工艺步骤来克服成千上万的技术细节。
正如Micro-Semiconductor的首席执行官尹志伟所说:关于米粒特征的微观技术,一般是限制200字,这是我们的等离子雕刻机的加工技术。芯片相当于烧掉1万亿粒大米。
长期以来,雕刻机的核心技术已被国外厂商垄断,微型半导体始于65 nm,45 nm,32 nm,28 nm,16 nm等离子电介质雕刻机。一台10纳米到7纳米的雕刻机也在您的生产线上运行,台积电将很快采用5纳米雕刻机。
然而,重要的是要注意微半导体可以获得5nm雕刻机,因为雕刻仅是该过程的许多步骤之一。
总的来说,中国的半导体制造技术仍然存在很大差异,特别是在光刻设备方面。上海最好的微电子技术仅占据了90纳米的位置。
当然,另一方面,中国的半导体技术不断缩小差距,达到各种水平,如14纳米工艺,如14纳米,华创硅/金属雕刻机,仍然先进华北,华创北部电影沉积队,北方黄光综合退火设备,以及上海圣美清洁队已成功开发和验证。
随着时间的推移,中国的芯片肯定会位居世界前列。


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